Intel торжественно открыла строительную площадку для двух новых заводов в Огайо

от автора

Компания Intel провела торжественное открытие строительной площадки в Огайо. В данной церемонии приняли участие официальные лица различного уровня: от президента США и главы штата до местных чиновников. Компания давно заявляла о намерении потратить $20 млрд на строительство предприятий в штате Огайо. Кроме того, Intel хочет выделить $50 млн в течение десяти лет на профильные образовательные программы в Огайо, охватывающие более 80 учреждений штата. 

В ближайшие три года компания намерена потратить на поддержку исследований и образовательных программ Intel $17,7 млн, распределённых между восемью академическими учреждениями Огайо. За это время  программа должна обеспечить подготовку примерно 9 тысяч выпускников, а 2,3 тысячи из них станут получателями целевых стипендий.

Что касается строительства предприятий в Огайо, на нём будет обеспечено работой  около 7 тысяч человек, а в дальнейшем около 3 тысяч специалистов будут работать в сфере инжиниринга и производства. Представители Intel подчёркивают, что два новых предприятия будут производить продукцию не только для собственных нужд, но и для сторонних клиентов. На строящееся предприятие направят литографические сканеры ASML с высоким значением числовой апертуры, позволяющие в дальнейшем выпускать продукцию по технологии Intel 18A. И если речь зашла о сторонних клиентах, скорее всего, подразумеваются оборонная отрасль. Некоторые её представители заинтересованы в получении продукции американского производства, отвечающей современным критериям. 

Кроме двух заводов, строящихся в Огайо, Intel собирается построить два предприятия в Аризоне, расширить производственные мощности в Нью-Мексико и усовершенствовать исследовательский центр в Орегоне. Центр должен сосредоточиться на разработке методов упаковки полупроводниковых компонентов и инновациях в сфере литографии. 


ссылка на оригинал статьи https://habr.com/ru/articles/687480/


Комментарии

Добавить комментарий

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *