СМИ: «ЗНТЦ разработал установку электронно‑лучевой литографии по технологии 150 нм для фотошаблонов и спецмикросхем»

В России создана суверенная установка электронно‑лучевой литографии с проектными нормами 150 нм для выпуска чипов. Оборудование разработало АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ). Сейчас 2 опытных образца установки проходят комплексные испытания. Об этом сообщило издание Cnews со ссылкой на тендер по транспортировке установки. Тендер был опубликован в июне 2026 года. В документации ЗНТЦ указал, что нужен перевозчик для доставки опытного образца установки электронно‑лучевой литографии с проектными нормами 150 нм в рамках опытно‑конструкторской работы с шифром «Прогресс ЭЛЛ 150». Место отправления — Зеленоград, пункт назначения не раскрывается.

Речь идёт о разработке установки электронно‑лучевой литографии и базовых технологических процессов формирования на фотошаблоне топологических элементов интегральных схем с проектными нормами 150 нм. Ключевая особенность установки — поддержка безмасковой литографии. В отличие от фотолитографии, где рисунок переносят через фотошаблон, электронно‑лучевая литография формирует изображение непосредственно на подложке при помощи сфокусированного пучка электронов. Это позволяет изготавливать фотошаблоны и создавать рисунок на кремниевых и других подложках без использования маски, что важно для опытных партий, прототипов и специализированных микросхем.

Разработка ведётся в рамках государственной программы «Научно‑технологическое развитие Российской Федерации». Оборудование в безмасочном режиме при прямой записи наносит рисунок микросхемы непосредственно на пластине, покрытой фоторезистом. Такой режим удобен для научных разработок и прототипирования, так как рисунок можно быстро менять без изготовления нового фотошаблона. При этом прямой способ записи остаётся медленным для крупносерийного производства.

Генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев сообщил Cnews, что установка будет направлена примерно за 2 тысячи километров от Зеленограда. По данным главы ЗНТЦ, 2 опытных образца проходят комплекс испытаний, который займёт 4 месяца. После этого начнутся проверки точности изображения и других технологических параметров.

Ранее ЗНТЦ создал фотолитограф с разрешением 350 нм, который передали компании «Отраслевые решения» ( входит в группу компаний «Элемент»). В марте 2026 года заместитель министра промышленности Василий Шпак заявил, что Россия начнёт работу над созданием литографа для производства чипов по топологии 90 нм. Исполнителя работ должны были определить по результатам конкурса.